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imec 展示 NbTiN 超导数字电路关键结构,可实现百倍能效提升

发布于 2024/12/27 16:06 22浏览 0回复 695

IT之家 12 月 27 日消息,比利时 imec 微电子研究中心表示,在本月 7~11 日于美国举行的 IEEE IEDM 2024 国际电子器件会议上,该机构展示了基于 NbTiN(氮化钛铌)超导材料的三类超导数字电源关键模块:互联(电线和通孔)、约瑟夫森结和 MIM 电容器。

imec 表示其展示的技术具有可扩展性,与标准 300mm(IT之家注:即 12 英寸)CMOS 制造技术兼容,这些超导结构还能承受传统 BEOL 后端工艺中的 420℃ 加工温度

而在参数表现上,imec 的第一代超导数字电路较基于常规 7nm CMOS 的系统能效提高了 100 倍、性能提升了 10~100 倍

▲ 超导电路结构,图源 imec

imec 宣称其 NbTiN 互联、约瑟夫森结、MIM 电容器均满足了所设想系统的工艺规范

  • imec 在 NbTiN 超导互联上采用半大马士革集成工艺构建双金属级方案,实现了低至 50nm 的导线和通孔临界尺寸,拥有高于 13K 的临界温度和大于 120 mA/μm2 的临界电流密度;

  • 而在约瑟夫森结部分,其通过夹在两个超导 NbTiN 层之间的 aSi 非晶态硅实现了大于 2.5 mA/μm2 的临界电流密度;

  • imec 还展示了使用 NbTiN 电极、基于 HZO(Hf0.5Zr0.5O2)材料的可调谐电容器,该电容器具有约 8 fF/μm2 的高电容密度。

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