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英伟达安培显卡爆料:全线支持光线追踪,采用三星10nm工艺

发布于 2020/03/12 15:14 479浏览 0回复 471

IT之家3月12日消息 根据外媒WCCFTECH的报道,爆料消息称英伟达的下一代GPU架构将基于三星10nm制程,而不是之前报道的台积电7nm工艺,据称使用的10nm制程更接近于三星提供的8LPP技术,另外新的Tegra芯片也将使用相同的制程。

外媒表示,英伟达安培架构曝光的GPU有GA102、GA013、GA104、GA106和GA1075款,配置最高的是GA102。报道还称英伟达新款GPU将全部支持RTX(实时光线跟踪),这意味着英伟达在安培架构上对RT核心设计进行升级,使其在性能较弱的显卡中也能实现光线追踪的效果。

爆料者@CorgiKitty提供的信息显示,配置最低的GA107为1280流处理器,4GB显存,最高的GA102 GPU为5376流处理器,12GB显存,其中GA102比上代的RTX 2080Ti性能提升了40%。

IT之家曾报道,受到疫情的影响,英伟达曾宣布将月底GTC的大会改为线上直播。根据外媒anandtech的最新消息,GTC线上直播也将取消,英伟达将会采用新闻稿的形式公布新品,时间定在3月24日。


本文由LinkNemo爬虫[Echo]采集自[https://www.ithome.com/0/477/321.htm]

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