IT之家2月7日消息，2月7日，上海微电子举行首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式，这标志着中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户。IT之家获悉，去年9月18日，上海微电子举行了新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。据悉，当时推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装

近日上海微电子举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付。光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术，集成电路就是由投影曝光装置制成的，将具有不同掩模图案的图形成像至基底上，制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可

IT之家9月19日消息 据上海微电子装备集团官方公众号，昨日，上海微电子举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。▲ 新一代先进封装光刻机，图源：上海微电子装备集团官方公众号据介绍，上海微电子此次推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点。上海微电子称，该封装光刻机可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封

国产光刻机的研发进程，似乎越发“扑朔迷离”。今年六月份有消息传出，国产光刻机龙头上海微电子将在一年内交付用于28nm制程生产的193nmArF光刻机。另外，据方正证券今年发布的相关研报，国家02专项光刻机项目二期曾设定，拟于2020年12月验收由上海微电子设计集成的193nmArF浸没式DUV光刻机。这一技术突破无疑极具重要意义。要知道，此前上海微电子能量产的最先进光刻机，已被卡在90nm制程上四

IT之家6月10日消息 界面新闻报道，近期，上海微电子装备(集团)股份有限公司披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机将从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。        IT之家了解到，上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、