IT之家8月16日消息，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称“中微公司”）今日宣布，已向美国法院正式提交诉状，起诉美国国防部将其列入中国军事企业清单（简称“CMC清单”）的决定。▲ 中微公司等离子体刻蚀设备美国东部时间2024年1月31日，美国国防部根据《2021财年国防授权法案》第1260H条，将中微公司列入CMC清单。中微公司表示，自被列入CMC清单以来，其积极地同美国国防部进行

IT之家8月22日消息，今日，中微公司宣布，公司的电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第2000个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。中微公司指出，本批次运付的CCP刻蚀设备反应台有PrimoAD-RIE及PrimoHD-RIE系列产品。其中，PrimoAD-RIE-e是中微第二代电介质刻蚀产品PrimoAD-RIE的子产品，将应用于5纳米及以下的前段和中段的掩膜层刻蚀的开发及量产。该交付批次的

据上观新闻报道，由中微半导体设备（上海）股份有限公司制造的刻蚀机，将于今年下半年运往台积电美国工厂，用于5nm工艺芯片生产。报道显示，位于金桥综保区的中微公司在本轮上海疫情期间坚持闭环生产，公司经营不断取得新突破，在闭环生产中，公司原材料进口需求也得到浦东海关大力协助，海关方面指导中微公司通过“单一窗口”“互联网+海关”等渠道在线办理申报，并通过在口岸实行外观查验后即刻放行，货物在企业洁净室符合条

中微公司在接受机构调研时表示，公司2021年在市场拓展、产品研发和财务表现等方面均进展不俗。其中，公司产品在关键客户市场的接受度和销售额稳步提升，高端工艺研发进展顺利，公司新签订单金额同比增长90.5%达41.3亿元，其中以刻蚀产品为主。据悉，中微公司2021年营业收入31.08亿元，其中刻蚀设备收入为20.04亿元，占收入比例约为64.48%；MOCVD设备收入为5.03亿元，占收入比例约为16

IT之家12月9日消息，今日中微公司宣布，旗下的PrismoUniMax MOCVD设备订单超100腔，迎来新的里程碑。MOCVD意为一种新型气相外延生长技术，可以在衬底上生成金属有机化合物的化学气相沉淀。中微公司的PrismoUniMax MOCVD设备于今年6月发布，主要用于氮化镓基MiniLED外延片的量产，成品可用于制造电视、笔记本、平板电脑等显示屏。PrismoUni

IT之家11月3日消息，昨日，中微公司宣布，电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第1500个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。本次交付的PrimoD-RIE刻蚀设备反应台来自该客户的重复订单。▲图源：中微公司IT之家了解到，中微公司表示，PrimoD-RIE刻蚀设备被芯片制造商用于制造存储和逻辑器件。为优化产量而设计，PrimoD-RIE可以配置多达三个双反应台反应腔，每个反应腔既可以独立操作

9月10日消息 上周供应链消息称，台积电还计划在第四季度与晶圆厂设备制造商和材料供应商就明年的价格展开谈判，并寻求大幅压低报价，该代工厂将寻求其设备和材料供应商在2022年提供的价格至少降低15%。有投资者在互动平台上问及中微公司上述消息是否属实，公司产品是否有被要求降价？ 中微公司回应称，公司未收到相关信息，对传言不予评论。公司综合考虑市场供需、成本及变化趋势等因素制定产品销

（原标题：尹志尧：国产设备发展空间广阔，中微公司将从三个维度扩展业务布局）8月25日，中微公司在上证路演平台举办2021年半年度业绩说明会。其中，中微公司董事长、总经理尹志尧，副总经理、财务负责人陈伟文以及董事会秘书、副总裁刘晓宇出席本次说明会。中微公司是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司，为全球集成电路和LED芯片制造商提供极具竞争力的高端设备和高质量的服务。中报数据显示，今

IT之家6月17日消息从中国科学技术大学获悉，6月9日，中国科学技术大学（简称“中国科大”）与中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称“中微公司”）签署共建“中微半导体集成电路英才班”合作协议。中国科大校长助理、教务长周丛照表示，与中微公司的合作将是该校微电子学院人才培养的一个新起点，期待在未来的长期合作中，双方充分利用中国科大的科研优势和中微公司的企业环境，共同建设“中微半导体集成电路英才班”。

IT之家6月17日消息从中微公司获悉，今日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（简称“中微公司”）宣布推出为高性能MiniLED量产而设计的PrismoUniMaxMOCVD设备。中微公司表示，该设备在帮助LED芯片制造商提高产能的同时能够有效地降低生产成本。据介绍，中微公司Prismo系列MOCVD设备已进入全球大多数氮化镓基蓝绿光LED制造商，此次推出的PrismoUniMax是中微公司Pri

IT之家6月13日消息从中微公司获悉，6月9日，中微半导体设备（上海）股份有限公司在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primonanova第100台反应腔交付客户庆祝仪式。IT之家了解到，Primonanova是中微公司于2018年发布的第一代电感耦合等离子体刻蚀设备，采用了中微公司的电感耦合等离子体刻蚀技术。中微公司表示，目前，Primonanova产品已成功进入海内外十余家客户的

4月26日报道，上周二，新一期杨澜访谈录节目《逐风者》专访我国半导体设备产业的重要领军人物之一——尹志尧。尹志尧现年77岁，在技术及产品的开发中获得过400多项各国专利，被评价为“硅谷最有成就的华人之一”。至今，全世界超过一半的刻蚀设备都有他参与领导和开发的身影。从硅谷归国的他，人生经历颇有一些传奇色彩。尹志尧1944年出生于北京，18岁考入中科大化学物理系，24岁被分配至兰州炼油厂，36岁获北大