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标签 > 标签文章:#后端工艺# (共有4文章)

  • 尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机:1.0μm 分辨率,2026 财年发售

    尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机:1.0μm 分辨率,2026 财年发售
    IT之家10月24日消息,尼康本月22日宣布该公司正在研发一款面向半导体先进封装工艺应用、“兼具高分辨率及高生产性能”的1.0微米(即1000纳米)分辨率数字光刻机,该设备预计在尼康2026财年(IT之家注:截至2026年3月31日)内发售。▲设备概念图尼康表示,随着数据中心AI芯片用量的不断提升,在以Chiplet芯粒技术为代表的先进封装领域出现了对基于玻璃面板的PLP封装技术日益增长的需求,分

     82    0    2024-10-24 14:00

  • 信越推出新型半导体后端制造设备,可无需中介层实现 HBM 内存 2.5D 集成

    信越推出新型半导体后端制造设备,可无需中介层实现 HBM 内存 2.5D 集成
    IT之家7月11日消息,日本信越化学6月12日宣布开发出新型半导体后端制造设备,可直接在封装基板上构建符合2.5D先进封装集成需求的电路图案。▲ 蚀刻图案这意味着可在HBM内存集成工艺中完全省略昂贵的中介层(Interposer),在大大降低生产成本的同时也缩短了先进封装流程。▲ 2.5D集成结构对比信越表示,该新型后端设备采用准分子激光器蚀刻布线,无需光刻工艺就能批量形成大面

     111    0    2024-07-11 15:30

  • 活用现有洁净室,英特尔与伙伴日企考虑租用夏普 LCD 工厂开发后端技术

    活用现有洁净室,英特尔与伙伴日企考虑租用夏普 LCD 工厂开发后端技术
    IT之家6月11日消息,据日经新闻报道,英特尔与14家日企成立的“半导体后工程(后端工艺)自动化・标准化技术组合”SATAS考虑租用夏普位于三重县的小型LCD工厂用于技术开发。SATAS研究协会成立于5月,旨在减少后端工艺中的人力使用,推动后端工艺的标准化和自动化,最终打造完全无人的后端生产线,计划到2028年实现技术商业化。为了开发相关技术,SATAS研究协会需要建设一条中试线,在中试线上验证标

     115    0    2024-06-11 19:09

  • 英特尔联合多家日企组建后端工艺自动化联盟,目标 2028 年实现技术商业化

    IT之家5月7日消息,据雅马哈发动机官网,英特尔将同包括其在内的14家日本企业和机构联合开发半导体后端制造过程自动化技术,目标2028年前实现技术商业化。该合作组织名为“半导体后端工艺自动化与标准化技术研究联盟”(IT之家注:英文名SemiconductorAssemblyTestAutomationandStandardizationResearchAssociation,简称SATAS),由英

     142    0    2024-05-07 14:12

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