IT之家9月14日消息，盛美半导体设备（上海）股份有限公司今日宣布推出“负压清洗平台”，以满足芯粒和其他3D先进封装结构清除助焊剂的独特需求。据介绍，清除回流焊后使用的助焊剂，是先进封装工艺的一部分，盛美上海的UltraCv负压清洗平台可满足这一独特要求。设备的尺寸不断缩小，传统的大气压下高水压对缝冲洗已不再适用。借助开发一种能在真空条件下进行清洗的产品，可以改善表面亲水性，让液体能够在极度狭窄的
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