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标签 > 标签文章:#苏大维格# (共有3文章)

  • 华为墨水屏平板产品已采用苏大维格导光板类产品

    华为墨水屏平板产品已采用苏大维格导光板类产品
    集微网消息,4月7日,苏大维格在投资者互动平台上表示,公司全资子公司苏州维旺科技有限公司,近期为国内消费电子龙头客户发布的一款全新墨水平板提供了前光技术与器件的独家量产支持。据悉,苏大维格子公司维业达主要产品为高性能透明导电膜,目前主要应用为触控领域,终端客户主要为行业龙头客户;公司子公司维旺主要产品为导光板类产品,包括最新的电子书及反射式液晶所设计生产的前置导光产品,且该类产品已成功量产应用在国

     372    0    2022-04-07 13:01

  • 苏大维格:公司激光直写光刻机具体应用包括柔性电子、MEMS 以及特定领域

    苏大维格:公司激光直写光刻机具体应用包括柔性电子、MEMS 以及特定领域
    集微网消息,3月21日,有投资者在投资者互动平台提问:苏大维格官网显示,iGrapher系列设备已用于4寸~8寸MEMS制备、17寸-65寸精密电路制备的工业应用。请问贵公司的光刻设备能否用于精密电路和MEMS的大规模制备?有没有提供给PCB或者MEMS制造厂商?苏大维格表示,公司激光直写光刻机具体应用包括柔性电子、MEMS以及特定领域半导体比如半导体功率芯片等产品的研发与制造。公司光刻设备整机除

     395    0    2022-03-21 18:00

  • 国内苏大维格公布最新 3D 直写光刻技术:实现光刻胶 3D 形貌可控制备

    IT之家10月12日消息近期,国内苏大维格厂商公布了3D直写光刻技术进展,在半导体、光电子、新材料创新方面更进一步。光刻是当前半导体、平板显示、MEMS、光电子等行业的关键工艺环节。光刻技术是指在短波长光照作用下,以光刻胶(光致抗蚀剂、photoresist)为介质,将微纳图形制备到基片上的技术。以半导体工艺为例,半导体器件由多种专用材料经过光刻、离子刻蚀、抛光等复杂微纳加工流程而完成。光刻设备是

     325    0    2020-10-12 17:46

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