IT之家5月23日消息，据荷兰媒体Bits&Chips报道，ASML顾问、前任CTO马丁・范登布林克（MartinvandenBrink）近日称，这家光刻机制造商考虑推出一个通用EUV光刻平台。范登布林克在本月21~22日举行的2024年度imecITFWorld技术论坛上表示：我们提出了一个长期（也许十年）的路线图：我们将拥有一个包含LowNA（0.33NA）、HighNA（0.55NA
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